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据官方媒体《环球时报》报道，国有企业上海微电子装备集团 (SMEE) 有望在 2023 年底前推出首款能够采用 28 纳米工艺技术生产芯片的扫描仪 。
SMEE的目标是在2023年底前向市场推出第一台国产SSA/800-10W光刻机，这对于该公司来说将是一个重大突破，该公司目前只生产足以满足90nm及更早节点节点的扫描仪。光刻扫描仪预计将使用本地开发和生产的组件，这就是中国光学组件制造商Mloptic、Kingsemi和Castech股价周三上涨的原因。
与此同时，这家总部位于上海的公司能否大规模生产这些机器仍存在不确定性。周三，有关这项技术进步的详细信息尚未公布，信息来源是国有的《环球时报》
目前，中芯国际和华虹可以从国外购买支持28纳米的工具，但本地扫描仪会更具成本效益。此外，它的出现将标志着 SMEE 能够跨越几代扫描仪，从支持 90 纳米的机器直接升级到支持 28 纳米的机器。SMEE 报道的突破可能是发展自力更生的芯片制造的重要一步，假设该公司完全自行设计该设备。
SMEE成立于2002年，是中国领先的光刻机制造商，被认为是ASML在中国唯一的潜在竞争对手。
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